簡(jiǎn)單分析一下X射線晶體定向儀的產(chǎn)業(yè)發(fā)展

　　X射線晶體定向儀利用X射線衍射原理,精密快速地測(cè)定天然和人造單晶(壓電晶體、光學(xué)晶體、激光晶體、半導(dǎo)體晶體)的切割角度，與切割機(jī)配備可用于上述晶體的定向切割，是精密加工制造晶體器件*的儀器。該儀器廣泛應(yīng)用于晶體材料的研究、加工、制造行業(yè)。
 

　　X射線晶體定向儀涉及的是半導(dǎo)體加工技術(shù)設(shè)備，特別是用于對(duì)晶體晶向測(cè)定的裝置背景技術(shù)X射線晶體定向儀是一種利用X射線衍射原理來(lái)測(cè)定晶體的晶面取向?，F(xiàn)有X射線晶體定向儀包括有機(jī)臺(tái)、在機(jī)臺(tái)內(nèi)裝有高壓變壓器裝置和控制器裝置、在機(jī)臺(tái)上端設(shè)置安裝有X射線出射裝置、測(cè)角裝置、射線接受裝置構(gòu)成。一般在機(jī)臺(tái)上采用雙向X射線出射裝置，對(duì)稱(chēng)設(shè)置測(cè)角裝置和射線接受裝置，形成雙工位的X射線晶體定向儀。其測(cè)角裝置上的工作臺(tái)是一普通平臺(tái)，將晶體棒放在上面進(jìn)行測(cè)量，測(cè)量調(diào)整并不方便，而且現(xiàn)如今單晶技術(shù)的發(fā)展，晶體棒尺寸已達(dá)到8″×700mm，重100kg，測(cè)角裝置上的普通工作臺(tái)已不能適應(yīng)使用需求。
 

　　X射線晶體定向儀產(chǎn)業(yè)發(fā)展各地政府部門(mén)尤其是縣級(jí)以下，許多工作人員認(rèn)為：我們長(zhǎng)期在當(dāng)?shù)毓ぷ鳎煜ぎ?dāng)?shù)厍闆r了，要問(wèn)我們應(yīng)該干什么，我們有發(fā)言權(quán)；因而對(duì)產(chǎn)業(yè)規(guī)劃不夠重視。事實(shí)上，長(zhǎng)期的理所當(dāng)然的發(fā)展并沒(méi)有取得突破，也許正是產(chǎn)業(yè)規(guī)劃的失誤。在當(dāng)前經(jīng)濟(jì)掛帥的政府工作中，產(chǎn)業(yè)規(guī)劃盡管已從初期的個(gè)案，發(fā)展到現(xiàn)在日益受到重視。但長(zhǎng)期以來(lái)，由于缺乏規(guī)劃的體系結(jié)構(gòu)的支撐，各地區(qū)編制的產(chǎn)業(yè)規(guī)劃對(duì)理清產(chǎn)業(yè)發(fā)展思路、明確產(chǎn)業(yè)布局、建立實(shí)施措施等起到積極的作用的同時(shí)，也隨著產(chǎn)業(yè)規(guī)劃實(shí)踐的逐漸深入而暴露出不少問(wèn)題。一般地，科研機(jī)構(gòu)或規(guī)劃部門(mén)在做產(chǎn)業(yè)規(guī)劃時(shí)，包括產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀分析、發(fā)展戰(zhàn)略、產(chǎn)業(yè)定位、產(chǎn)業(yè)體系、產(chǎn)業(yè)鏈條、項(xiàng)目建議、環(huán)境影響、實(shí)施方案等產(chǎn)業(yè)分支進(jìn)行綜合研究分析做出科學(xué)的計(jì)劃。
 

　　但在人們心目中，多重視空間規(guī)劃，強(qiáng)調(diào)規(guī)劃者要有資質(zhì)，這其實(shí)是不了解產(chǎn)業(yè)規(guī)劃的作用。一個(gè)地區(qū)經(jīng)濟(jì)發(fā)展，其核心是產(chǎn)業(yè)，要解決做什么、為什么、怎么做三個(gè)問(wèn)題。產(chǎn)業(yè)的空間布局只是X射線晶體定向儀產(chǎn)業(yè)在區(qū)域內(nèi)的分布設(shè)計(jì)，是“怎么做”這一環(huán)節(jié)的部分內(nèi)容。有資質(zhì)的規(guī)劃單位，往往是從工程、建筑等角度出發(fā)，是對(duì)產(chǎn)業(yè)規(guī)劃實(shí)施過(guò)程中工程性內(nèi)容的設(shè)計(jì)，要承擔(dān)因設(shè)計(jì)不合理而導(dǎo)致的風(fēng)險(xiǎn)責(zé)任，因此需有資質(zhì)。